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紫外臭氧清洗机,半导体材料UV清洗机,单晶基片清洗设备

简要描述：臭氧紫外清洗机‌的原理主要是利用紫外光和臭氧的相互作用来去除材料表面的有机污染物。 紫外光清洗技术通过发射波长为185nm和254nm的光波，这些光波具有很高的能量。当这些光子作用到被清洗物体表面时，它们会使被清洗物体表面的有机物质发生光敏氧化作用，分解成离...

  • 更新时间：2024-12-23 08:36:35
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